中微公司(688012)刻蚀设备领军者，技术新品不断突破

敬请参阅末页重要声明及评级说明 证券研究报告 [Table_StockNameRptType] 中微公司（688012） 公司覆盖 刻蚀设备领军者，技术新品不断突破 [Table_Rank] 投资评级：买入 首次覆盖 报告日期： 2025-04-10 [Table_BaseData] 收盘价（元） 188.86 近 12 个月最高/最低（元） 256.99/115.50 总股本（百万股） 622 流通股本（百万股） 622 流通股比例（%） 100.00 总市值（亿元） 1,175 流通市值（亿元） 1,175 [Table_Chart] 公司价格与沪深 300 走势比较 [Table_Author] 分析师：陈耀波 执业证书号：S0010523060001 邮箱： chenyaobo@hazq.com 分析师：李美贤 执业证书号：S0010524020002 邮箱： limeixian@hazq.com [Table_CompanyReport] 相关报告 !"#$% [Table_Summary] l 刻蚀设备领军者，深耕技术不断取得突破 公司主要产品为刻蚀、薄膜沉积设备，是半导体设备的重要市场（WFE总资本开支合计占 43%）。成立以来，公司先后突破了 CCP 刻蚀、MOCVD，ICP 刻蚀、LPCVD 等半导体设备产品。其中，公司的 CCP刻蚀产品进入 2D 和 3D 存储器生产线，有 270+反应台进入 5nm 及以下生产线；ICP 刻蚀的双台机产品已进入生产线，为公司带来显著的市场份额增长 ；深硅刻蚀产品在国内 TSV/MEMS 成为主流设备；LPCVD为新产品，已在 3D 存储器验证通过，开始贡献营收。 l 国产化推动支持下，大陆晶圆产能快速扩张 根据 SEMI 数据，2000 年，美国和日本主导着全球半导体产能的半壁江山，中国大陆的产能仅占 2%。到了 2010 年，半导体产能开始向亚洲转移，韩国和中国台湾两者相加的产能达到了全球产能的 35%，而此时中国大陆的产能提升至 9%。2020 年，随着中国大陆产线的建设以及原有产线的扩产，中国大陆的产能占比提升至 17%。展望 2026 年，中国大陆 12 寸晶圆产能将占到 25%的比重，跃升为全球 12 寸晶圆产能第一，主要驱动力来自于产线国产化和成熟节点投资。 l 随着制程节点不断进步，晶体管结构愈发复杂，刻蚀重要性愈发凸显 随着芯片制造中线宽的进一步缩小和先进工艺的广泛采用，对沉积与刻蚀技术的精确性和控制能力提出了更高的要求。此外，随着 3D NAND层数变高，刻蚀需要超高深宽比控制，推动刻蚀设备需求大幅增长，ICP和 CCP 设备凭借精准的深孔加工能力，成为 3D NAND 制造的核心工具。随着层数继续提升，刻蚀技术将持续在高存储密度制造中发挥关键作用。 l 持续的高研发投入下，公司不断取得产品突破 公司常年保持高研发投入，研发费用率稳定在 10%以上水平。与海外设备商应用材料，泛林半导体相比，公司 2020 年起研发费率便一直高于海外。公司不断突破性能和产品效率，拓宽产品线，近年来先后推出了双反应台刻蚀，LPCVD 等设备。2024 年 5 月，公司发布 Preforma Uniflex HW 和 AW 设备，专注于高深宽比金属钨沉积，采用自主生长梯度抑制工艺和优化热场系统，实现复杂结构的精确填充和高生产效率。 l 投资建议 我们预计 2024-2026 年公司归母净利润分别为 16、25、34 亿元，对应的 EPS 分别为 2.6、4.0、5.5 元，对应 2025 年 4 月 10 日收盘价 PE 分别为 72x、47x、34x。首次覆盖给予“买入”评级。 l 风险提示 扩产不及预期、研发进度不及预期、产业竞争加剧、贸易摩擦加剧。 [Table_Profit] -28%0%28%55%83%4/247/2410/241/254/25中微公司沪深300 [Table_CompanyRptType1] 中微公司（688012） !"#$%&'()*+,-.* 2 / 19 /01234 l 重要财务指标 单位:百万元 主要财务指标 2023A 2024E 2025E 2026E 营业收入 6264 9065 12122 15623 收入同比（%） 32.1% 44.7% 33.7% 28.9% 归属母公司净利润 1786 1626 2476 3413 净利润同比（%） 52.7% -9.0% 52.3% 37.8% 毛利率（%） 45.8% 42.6% 43.5% 43.0% ROE（%） 10.0% 8.2% 11.0% 13.2% 每股收益（元） 2.89 2.61 3.98 5.48 P/E 53.15 72.29 47.47 34.44 P/B 5.34 5.90 5.24 4.55 EV/EBITDA 59.65 56.73 37.00 27.75 资料来源： wind，华安证券研究所 敬请参阅末页重要声明及评级说明 3 / 19 证券研究报告 [Table_CompanyRptType1] 中微公司（688012） 正文目录 1 快速成长的半导体设备领军者 ............................................................................................................................................ 5 1.1 CCP 刻蚀起步，不断进行技术攻坚 ................................................................................................................................................. 5 1.2 刻蚀&薄膜沉积优势明显 .................................................................................................................................................................... 7 1.3 受益国产替代，公司进入高速成长期 ...........................................................................................................