24年报及25Q1季报点评：刻蚀设备销量持续高速增长，多款薄膜沉积设备获得重复性订单

第 1 页 / 共 5 页 本报告版权属于中原证券股份有限公司 www.ccnew.com 请阅读最后一页各项声明 半导体 分析师：邹臣 登记编码：S0730523100001 zouchen@ccnew.com 021-50581991 刻蚀设备销量持续高速增长，多款薄膜沉积设备获得重复性订单 ——中微公司(688012)24 年报及 25Q1 季报点评 证券研究报告-季报点评 买入(维持) 市场数据(2025-04-25) 收盘价(元) 187.46 一年内最高/最低(元) 246.30/117.30 沪深 300 指数 3,786.99 市净率(倍) 5.79 流通市值(亿元) 1,166.68 基础数据(2025-03-31) 每股净资产(元) 32.37 每股经营现金流(元) 0.61 毛利率(%) 41.54 净资产收益率_摊薄(%) 1.55 资产负债率(%) 25.74 总股本/流通股(万股) 62,236.37/62,236.37 B 股/H 股(万股) 0.00/0.00 个股相对沪深 300 指数表现 资料来源：中原证券研究所，聚源 相关报告 联系人： 李智 电话： 0371-65585629 地址： 郑州郑东新区商务外环路10 号18 楼 地址： 上海浦东新区世纪大道1788 号T1 座22 楼 发布日期：2025 年 04 月 28 日 事件：近日公司发布 2024 年度报告及 2025 年一季度报告，2024 年公司实现营收 90.65 亿元，同比+ 44.73%；归母净利润 16.16 亿元，同比-9.53%；扣非归母净利润 13.88 亿元，同比+16.51%；2025 年第一季度公司实现营收 21.73 亿元，同比+35.40%，环比-38.92%；归母净利润 3.13 亿元，同比+25.67%，环比-55.45%；扣非归母净利润 2.98亿元，同比+13.44%，环比-48.09%。 投资要点：  营收持续高速成长，合同负债与存货大幅增长。公司的等离子体刻蚀设备在国内外持续获得更多客户的认可，针对先进逻辑和存储器件制造中关键刻蚀工艺的高端产品新增付运量显著提升，公司的薄膜设备已经顺利进入市场，并开始贡献收入，推动公司整体营收持续高速成长。公司 2024 年实现毛利率为 41.06%，同比下降 4.77%，25Q1 毛利率为 41.54%，同比下降 3.40%，环比提升 2.28%；公司 2024 年实现净利率为 17.81%，同比下降 10.67%，25Q1 净利率为 14.18%，同比下降 1.32%，环比下降 5.55%。由于市场对公司开发多种新设备的需求急剧增长，公司持续加大研发力度，2024 年研发投入约 24.52 亿元，同比增长约 94.31%，研发投入占营业收入比例约为 27.05%；25Q1 公司研发投入约 6.87 亿元，同比增长约 90.53%。25Q1 末公司合同负债为 30.67 亿元，较 24Q1 末大幅增长 162.36%，较 24 年底增长 18.60%；25Q1 末公司存货为74.48 亿元，较 24Q1 末增长 33.38%，较 24 年底增长 5.81%；公司合同负债与存货大幅增长，为后续营收持续高速成长奠定坚实基础。  CCP 与 ICP 刻蚀设备优势突出，销量持续高速增长。公司的 CCP与 ICP 等离子体刻蚀设备可以覆盖国内 95%以上的刻蚀应用需求，受益于公司完整的单台和双台刻蚀设备布局、核心技术持续突破、产品升级快速迭代、刻蚀应用覆盖丰富等优势，2024 年公司 CCP与ICP刻蚀设备的销售增长和在国内主要客户芯片生产线上市占率均大幅提升。公司 CCP 刻蚀设备中双反应台 Primo D-RIE、Primo AD-RIE、Primo AD-RIEe，单反应台 PrimoHD-RIE 等产品已广泛应用于国内外一线客户的生产线，2024 年付运量同比增长逾100%；具有动态可调电极间距功能的双反应台 Primo SD-RIE 进入先进逻辑生产线验证关键工艺；用于高精度高选择比刻蚀工艺的单反应台产品 Primo HD-RIEe，和用于超高深宽比刻蚀工艺的 Primo UD-RIE 实现规模付运；2024 年公司 CCP 刻蚀设备生产付运超过-19%-7%6%19%31%44%57%69%2024.042024.082024.122025.04中微公司沪深30011772 半导体 第 2 页 / 共 5 页 本报告版权属于中原证券股份有限公司 www.ccnew.com 请阅读最后一页各项声明 1200 反应台，创历史新高。公司的 ICP 刻蚀设备在涵盖逻辑、DRAM、3D NAND、功率和电源管理、以及微电机系统等芯片和器件的 50 多个客户的生产线上量产，并继续验证更多 ICP 刻蚀工艺；2024 年，公司 ICP 刻蚀设备在客户端的累计安装数达到 1025 个反应台，近四年年均增长大于 100%。2024 年，公司推出了适用于更高深宽比结构刻蚀的 Nanova LUX-WT 和 Nanova LUX-Cryo 两种ICP 设备，这些配备新功能的 Nanova 系列产品提升了 ICP 刻蚀设备的刻蚀能力，有效地扩大了公司 ICP 设备在芯片制造中的量产刻蚀工艺覆盖率，获得重要客户的批量重复订单，实现了高速成长。  多款薄膜沉积设备顺利进入市场，并获得重复性订单。近两年公司新开发的 LPCVD 和 ALD 薄膜设备，已有多款新型设备顺利进入市场并获得重要客户的重复性订单。公司完全自主设计开发的双台机钨系列设备，生产效率达到业界领先水平。公司开发的金属钨系列在生产稳定性上也表现出了突出性能，其中原子层沉积金属钨产品晶圆间薄膜均一性达到了小于 1%的水平。公司新推出自主开发的金属栅系列产品，继承中微独特的双反应台设计，通过中微专利的多级匀气混气设计，基于模型算法的加热系统设计和可实现高效原子层沉积反应的反应腔流导设计等，具备高输出效率的同时，产品性能达到国际先进水平，可满足先进逻辑关键金属栅应用需求。公司 LPCVD 设备出货量已突破 150 多个反应台，2024 年得到约 4.76亿元批量订单，其他二十多种导体薄膜沉积设备也将陆续进入市场，能够覆盖全部类别的先进金属应用。  盈利预测与投资建议。刻蚀设备与薄膜沉积设备市场空间广阔，公司具有完整的单台和双台刻蚀设备布局、核心技术持续突破、产品升级快速迭代、刻蚀应用覆盖丰富等优势，CCP 与 ICP 刻蚀设备销量持续高速增长，公司多款薄膜沉积设备顺利进入市场，并获得重复性订单，我们预计公司 25-27 年营收为 120.43/155.23/198.09亿元，25-27 年归母净利润为 22.94/30.96/41.10 亿元，对应的 EPS为 3.69/4.97/6.60 元，对应 PE 为 50.87/37.68/28.39 倍，维持“买入”评级。 风险提示：晶圆厂扩产进度不及预期风险，行业竞争加剧风险，新产品研发进展不及预期风险，国际贸易冲突加剧风险。 2023A 2024A 2025E 2026E 2